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        6. MOS器件,耗盡層與反型層詳解以及區(qū)別
          • 發(fā)布時間:2022-06-24 16:02:49
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          MOS器件,耗盡層與反型層詳解以及區(qū)別
          耗盡層和反型層
          反型層是半導體材料中的一層,在某些條件下,多數(shù)載流子的類型在一定條件下變化。在通常的MOS器件中,反型層構成導電溝道,是器件導通的原因,表面反型狀態(tài)對MOS器件至關重要。
          MOS器件 耗盡層 反型層
          當柵源之間加上正向電壓P型襯底相當于以SiO2為介質(zhì)的平板電容器,在正的柵源電壓的作用下,介質(zhì)將產(chǎn)生一個垂直于半導體表面的由柵極指向P襯底的電場但不會產(chǎn)生電流iG。
          這個電場是排斥空穴而吸引電子的,因此,使柵極附近的P型襯底中的空穴被排斥,同時P型襯底中的少子(電子)被吸引到柵極下的襯底表面,當正的柵源電壓達到一定數(shù)值時,這些電子在柵極附近的P型硅表面便形成了一個N型薄層,稱之為反型層。
          在反型狀態(tài)下,反型載流子主要分布在緊靠表面的薄層內(nèi),其厚度約為10nm,比下面的耗盡層薄得多。一般假定反型層是一個厚度可以忽略的薄層,這一假設稱為電荷薄層近似,全部降落在其下的耗盡層上。
          強反型狀態(tài)
          半導體表面的少數(shù)載流子濃度等于體內(nèi)的多數(shù)載流子濃度時,半導體表面開始強反型。
          強反型時,表面勢近似為不變的數(shù)值,耗盡層電荷及耗盡層厚度有極大值,此時過剩柵壓只是形成反型層電荷。
          耗盡層,是指PN結中在漂移運動和擴散作用的雙重影響下載流子數(shù)量非常少的一個高電阻區(qū)域。耗盡層的寬度與材料本身性質(zhì)、溫度以及偏置電壓的大小有關。
          耗盡層(depletion region),又稱耗盡區(qū)、阻擋層、勢壘區(qū)(barrier region),是指PN結中在漂移運動和擴散作用的雙重影響下載流子數(shù)量非常少的一個高電阻區(qū)域。
          耗盡層的寬度與材料本身性質(zhì)、溫度以及偏置電壓的大小有關。
          耗盡區(qū)是這樣命名的,因為它是由導電區(qū)域通過除去所有自由電荷載體而形成的,而不留下任何電流。
          了解耗盡區(qū)是解釋現(xiàn)代半導體電子器件的關鍵:二極管,雙極結型晶體管,場效應晶體管和可變電容二極管都依賴于耗盡區(qū)現(xiàn)象。
          MOS管形成導電溝道時的耗盡層和反型層區(qū)別
          以NMOS為例,它是P型襯底,空穴是襯底的多子。
          NMOS要導通的話,得給柵極加正電壓,那么柵極金屬層將積累正電荷,排斥襯底中的空穴,使之剩下不能移動的負電中心區(qū)域,這塊區(qū)域就叫做耗盡層。
          簡單理解就是襯底里的多子被耗盡(排斥)了。什么是反型層呢?給柵極加正電壓,排斥空穴的同時,也會吸引襯底中的自由電子。
          電子被吸引到耗盡層和絕緣層(SiO2)之間,形成一個N型薄區(qū),稱為反型層。這個反型層就是源漏之間的導電溝道。
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